← В ленту Новость · 26 августа · 2 мин
Новости

Новая 3D-память избавит смартфоны от перегрева

Инженеры из Кореи решили главную проблему многослойной памяти — перегрев и коррозию внутренних контактов. С помощью микроскопических барьеров чипы станут долговечнее, а мобильные устройства перестанут снижать скорость и обжигать руки при тяжелых нагрузках.

Создатели смартфонов уперлись в физический предел кремниевых чипов. Десятилетиями гаджеты ускоряли простым уменьшением транзисторов на плоской пластине. Это пространство исчерпано: делать дорожки еще тоньше уже невозможно. Чтобы встроенный искусственный интеллект не высаживал батарею за пару часов, инженеры начали собирать чипы памяти вертикально, в несколько слоев (3D-компоновка). Это экономит место в корпусе, но порождает жесткий перегрев и быстрый износ компонентов.

В традиционной оперативной памяти (DRAM) по мере уменьшения деталей начинает утекать ток. Переход на вертикальные транзисторы из оксидных полупроводников позволяет упаковать гигантский объем памяти в крошечный объем. Но есть подвох: микроскопические дефекты — так называемые кислородные вакансии. Нехватка атомов кислорода дестабилизирует ток, и данные разрушаются. Когда же инженеры добавляют кислород для устранения брешей, он просачивается к металлическим контактам и окисляет их. Простыми словами: попытка починить полупроводник разрушает микропроводку, из-за чего чип перегревается и снижает скорость.

Кислородные туннели для стабильной работы

Исследователи из Корейского института передовых технологий (KAIST) вместе с коллегами из университетов UNIST и Ёнсе нашли способ остановить эту нежелательную реакцию. В журнале Advanced Functional Materials они описали защитный многослойный барьер из нитрида и диоксида кремния (SiN/SiO₂/SiN). Конструкция работает как микроскопический кислородный туннель: кислород поступает строго туда, где нужно залечить дефекты, а металлические электроды остаются защищенными от коррозии.

Тесты на выносливость подтвердили надежность решения: после 10 миллионов циклов электрических нагрузок сдвиг порогового напряжения составил менее 50 милливольт (мВ). С такой стабильностью память сможет годами работать в карманном устройстве без деградации и сбоев.

Что это дает в реальных устройствах

Команда KAIST уже протестировала оксидные структуры на стандартных кремниевых линиях производства, доказав их применимость на практике. Главный плюс для пользователя — контроль над температурой. Сейчас обработка снимков и локальные нейросети быстро превращают телефон в горячий кирпич, заставляя память сбрасывать частоты ради охлаждения.

Смартфоны с новой архитектурой появятся на полках магазинов не завтра — запуск технологии в массовое производство займет несколько лет. Однако когда многослойная 3D-память доберется до потребительской электроники, устройства смогут быстро обрабатывать сложные задачи и запускать встроенный ИИ без дикого нагрева корпуса и внезапного падения скорости.

Источник Tech Xplore (AI) → © 2026 «Гад же ты». Полное или частичное копирование — со ссылкой на эту страницу.